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天眼查App顯示，盛美半導(dǎo)體設(shè)備（上海）股份有限公司于2023年6月29日申請(qǐng)了一項(xiàng)名為“電鍍?cè)O(shè)備及電鍍方法”的發(fā)明專利，并于2024年12月31日正式公開。該專利涉及一種新型電鍍?cè)O(shè)備，旨在通過優(yōu)化攪拌機(jī)構(gòu)的運(yùn)動(dòng)模式，提升電鍍效率并確保電鍍均勻性。

該電鍍?cè)O(shè)備包括電鍍腔、晶圓保持裝置、攪拌機(jī)構(gòu)及驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)。攪拌機(jī)構(gòu)置于電鍍腔內(nèi)，當(dāng)晶圓保持裝置保持有晶圓時(shí)，攪拌機(jī)構(gòu)與晶圓平行。驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)被配置為驅(qū)動(dòng)攪拌機(jī)構(gòu)平行于晶圓進(jìn)行連續(xù)的主周期性往復(fù)運(yùn)動(dòng)，以攪動(dòng)電鍍液。每個(gè)主周期性往復(fù)運(yùn)動(dòng)包括N個(gè)連續(xù)的副周期性往復(fù)運(yùn)動(dòng)，N為大于或等于2的整數(shù)。在同一個(gè)主周期內(nèi)，前一個(gè)副周期的終點(diǎn)位置是后一個(gè)相鄰副周期的起點(diǎn)位置，且副沖程為大于0的實(shí)數(shù)，副沖程是同一個(gè)副周期內(nèi)的終點(diǎn)位置與起點(diǎn)位置之間的距離。

該技術(shù)通過對(duì)攪拌機(jī)構(gòu)運(yùn)動(dòng)模式的精確調(diào)控，不僅提高了電鍍效率，還實(shí)現(xiàn)了均勻電鍍的效果。這一創(chuàng)新有望在半導(dǎo)體制造等領(lǐng)域帶來顯著的技術(shù)進(jìn)步。

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